[口头报告]B和Si掺杂对TiAlTaN涂层结构和性能的影响

B和Si掺杂对TiAlTaN涂层结构和性能的影响
编号:398 稿件编号:372 访问权限:仅限参会人 更新:2025-04-21 21:03:32 浏览:76次 口头报告

报告开始:2025年05月11日 15:15 (Asia/Shanghai)

报告时间:15min

所在会议:[B2] 薄膜科技论坛二 » [B22] 下午场

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摘要
TiAlTaN涂层因具有较优异的结构稳定性、力学性能和抗氧化性被广泛应用于切削刀具防护领域,第五组元掺杂可进一步改善TiAlTaN涂层的综合性能。本工作采用阴极弧蒸发法制备了Ti0.34Al0.50Ta0.16N、Ti0.33Al0.51Ta0.13B0.03N和Ti0.33Al0.52Ta0.12Si0.03N涂层,结合实验和第一性原理计算探究了B和Si掺杂对TiAlTaN涂层结构、力学与热性能的影响。结果表明B或Si掺杂会降低TiAlTaN涂层的韧性;但B/Si元素掺杂引起的固溶强化和细晶强化提高了TiAlTaN涂层的硬度,Ti0.33Al0.51Ta0.13B0.03N涂层具有最大的硬度值37.8 ± 0.6 GPa,且其在1000°C退火后获得了最大的峰值硬度39.3 ± 0.9 GPa。TiAlTaXN涂层的氧化失效机制主要取决于O向内扩散对晶格结构的破坏程度以及氧化层的致密性。分子动力学模拟表明TiAlTaBN体系的晶格结构在氧化过程中易遭到破坏,而TiAlTaSiN体系对O原子的向内扩散有较强的阻碍作用。Si掺杂抑制了TiAlTaN涂层氧化过程中锐钛矿型TiO2向金红石型TiO2的转变。Ti0.34Al0.50Ta0.16N、Ti0.33Al0.51Ta0.13B0.03N和Ti0.33Al0.52Ta0.12Si0.03N涂层在1000°C氧化15 h后的氧化层厚度分别为~1.08 μm、1.25 μm和0.83 μm。
关键字
TiAlTaXN涂层,力学性能,热性能,第一性原理计算
报告人
李佳婕
硕士研究生 中南大学粉末冶金研究院

稿件作者
李佳婕 中南大学粉末冶金研究院
陈利 中南大学粉末冶金研究院全国重点实验室
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