深小孔喷射电沉积青铜层均匀性的多物理场模拟与实验研究
编号：64
稿件编号：68 访问权限：仅限参会人
更新：2025-03-31 09:05:19 浏览：102次
口头报告
报告开始：2025年05月11日 15:00 （Asia/Shanghai）
报告时间：15min
所在会议：[H2] 材料表层强化和改性技术论坛二 » [H22] 下午场
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摘要
青铜涂层因其优异的性能而被广泛应用于各行各业。然而，实现均匀的成分和厚度、采用环保技术和提高制造效率仍然是重大挑战。在本研究中，通过耦合对流、阳离子传输和电化学反应开发了一个多物理模型来模拟小直径孔中的喷射电沉积。通过模拟和实验验证相结合的方式，研究了阳极设计和阳离子浓度对青铜涂层化学成分和厚度的影响。通过分析对流、扩散和电迁移之间的相互作用，阐明了喷射电沉积的机理。结果表明，模拟和实验之间具有很强的一致性，证实了喷射电解质有效地破坏了扩散层，从而维持了阴极表面的反应。这项工作为优化喷射电沉积以在小直径孔中制备高质量的青铜涂层提供了宝贵的见解。
关键字
多物理场建模,射流电沉积,深小孔,青铜镀层,均匀性
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